在半导体工业中，纯水的质量和数量对生产过程中的水质要求非常严格。一般来说，半导体工业纯水制取主要采用反渗透工艺和去离子两种技术。

反渗透工艺是一种常用的水处理技术，其原理是利用半透膜，将水分子和离子分开。在反渗透过程中，水分子可以通过半透膜，而离子则不能。因此，通过反渗透工艺被广泛用于制备高纯水。

去离子则是另一种常用的水处理技术，其原理是利用离子交换树脂，将水中的离子去除。在去离子的过程中，离子交换树脂可以将水中的离子吸附并将其去除，从而获得纯净的水。在半导体工业中，去离子技术主要用于制备超纯水。